科学技術と共に歩む

ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用

• 表面技術協会 編
• 関口 敦 工学院大/元 キヤノンアネルバ（株） 著
• 杉村 博之 京大教授 著
• 小田 昭紀 千葉工大教授 著
• 中村 圭二 中部大教授 著
• 井上 泰志 千葉工大教授 著
• 大工原 茂樹 元 日本真空学会 著
• 渡部 修一 日本工大教授 著
• 梅村 茂 元 千葉工大教授 著
• 坂本 幸弘 千葉工大教授 著
• 川名 淳雄 日本コーティングセンター（株） 著
• 黒田 聖治 物質・材料研究機構 著
• 尾形 聡 月島機械（株） 著
• 矢嶋 龍彦 埼玉工大教授 著
• 節原 裕一 阪大教授 著
• 光田 好孝 東大教授 著
• 馬場 恒明 長崎県工業技術センター 著
• 國次 真輔 岡山県工業技術センター 著
• 三浦 健一 大阪府立産業技術総合研究所 著
• 田中 一平 千葉工大 著
• 石原 正統 産業技術総合研究所 著
• 亀山 哲也 産業技術総合研究所 著
• 稲垣 雅彦 産業技術総合研究所 著
• 堀 勝 名大教授 著
• 田中 宏昌 名大特任講師 著

「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。第Ⅰ編「ドライプロセスの基盤技術」および第Ⅱ編「ドライプロセスの応用」から構成され，研究現場や製造現場で的確にドライプロセスが実施できるよう工夫し解説した。

ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎

• 表面技術協会 編
• 明石 和夫 東大名誉教授 著
• 杉村 博之 京大教授 著
• 坂本 幸弘 千葉工大教授 著
• 井上 泰志 千葉工大教授 著
• 中野 武雄 成蹊大教授 著
• 大工原 茂樹 日本真空学会 著
• 柏木 邦宏 東洋大名誉教授 著
• 草野 英二 金沢工大教授 著
• 堀 勝 名大教授 著
• 石川 健治 名大教授 著
• 鷹野 一朗 工学院大教授 著
• 伊藤 滋 東京理科大教授 著
• 馬場 恒明 長崎県工業技術センター 著
• 浦尾 亮一 茨城大名誉教授 著
• 馬場 茂 成蹊大教授 著
• 渡部 修一 日本工大教授 著
• 穂積 篤 産業技術総合研究所 著

本書では，まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ，次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに，代表的なドライプロセスを取り上げ，どのような原理・原則に基づいているか，薄膜・表面評価分析技術について解説。