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「著者:明石 和夫」検索結果

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ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎

ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎

本書では,まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ,次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに,代表的なドライプロセスを取り上げ,どのような原理・原則に基づいているか,薄膜・表面評価分析技術について解説。

発行年月日
2013/05/20
定価
3,080(本体2,800円+税)
ISBN
978-4-339-04631-1
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