レビュー,書籍紹介・書評掲載情報
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本書では,まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ,次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに,代表的なドライプロセスを取り上げ,どのような原理・原則に基づいているか,薄膜・表面評価分析技術について解説。
- 発行年月日
- 2013/05/20
- 定価
- 3,080円(本体2,800円+税)
- ISBN
- 978-4-339-04631-1
在庫あり
レビュー,書籍紹介・書評掲載情報
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「Electoronic Journal」(電子ジャーナル発行) 2013年8月号
掲載日:2013/08/21
上記雑誌に書評が掲載されました。
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日刊工業新聞2013年5月28日 「技術科学図書」欄
掲載日:2013/06/17
日刊工業新聞 「技術科学図書」欄に当書籍の新刊紹介が掲載されました。
「日刊工業新聞」Webページはこちら
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日刊工業新聞2013年5月28日 「技術科学図書」欄
掲載日:2013/04/23
日刊工業新聞 「技術科学図書」欄に当書籍の新刊紹介が掲載されました。
「日刊工業新聞」Webページはこちら