検索結果 「著者:堀 照夫」検索結果 絞り込み 電気・電子工学 化学・化学工学 在庫あり 在庫僅少 立ち読みあり 電子版あり 教科書向け レビューあり ※書籍在庫がない場合でも電子版がある場合があります。電子版ありにチェックをつけてください。 再検索 さらに詳細に絞り込む 2件中 1件 - 2件 表示順 発行年月日降順 発行年月日昇順 表示件数 15件 30件 50件 100件 1 躍進する超臨界流体技術 - 新しいプロセスの原理とその実用化 - 後藤 元信 名大教授 編著堀添 浩俊 名大教授 著佐古 猛 静岡大教授 著神田 英輝 名大助教 著岡島 いづみ 静岡大助教 著内田 博久 信州大准教授 著大嶋 正裕 京大教授 著奥林 里子 京都工繊大准教授 著堀 照夫 福井大客員教授 著川崎 慎一朗 産業技術総合研究所 著福里 隆一 SCFテクノリンク 著 液体と気体の両方の性質をあわせ持つ超臨界流体を用いた技術は,食品やエネルギー,環境,材料等の幅広い分野で利用されている。「分離・反応プロセス」「材料調製プロセス」「実用化の課題」の三編構成とし,詳しく解説した。 発行年月日 2014/12/22 定価 3,410円(本体3,100円+税) ISBN 978-4-339-06635-7 在庫あり 詳細を見る 半導体・MEMSのための超臨界流体 近藤 英一 山梨大教授 編著上野 和良 芝浦工大教授 著内田 寛 上智大准教授 著曽根 正人 東工大准教授 著生津 英夫 NTTアドバンステクノロジ (株) 著服部 毅 Hattori Consulting International 著堀 照夫 福井大教授 著森口 誠 オムロン (株) 著 気体と液体の性質を併せもつ超臨界流体について,その特長と,乾燥,めっき,薄膜堆積,洗浄など,半導体・MEMSのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説した,超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本。 電子版あり 発行年月日 2012/09/28 定価 3,740円(本体3,400円+税) ISBN 978-4-339-00837-1 在庫あり 詳細を見る 2件中 1件 - 2件 1
躍進する超臨界流体技術 - 新しいプロセスの原理とその実用化 - 後藤 元信 名大教授 編著堀添 浩俊 名大教授 著佐古 猛 静岡大教授 著神田 英輝 名大助教 著岡島 いづみ 静岡大助教 著内田 博久 信州大准教授 著大嶋 正裕 京大教授 著奥林 里子 京都工繊大准教授 著堀 照夫 福井大客員教授 著川崎 慎一朗 産業技術総合研究所 著福里 隆一 SCFテクノリンク 著 液体と気体の両方の性質をあわせ持つ超臨界流体を用いた技術は,食品やエネルギー,環境,材料等の幅広い分野で利用されている。「分離・反応プロセス」「材料調製プロセス」「実用化の課題」の三編構成とし,詳しく解説した。 発行年月日 2014/12/22 定価 3,410円(本体3,100円+税) ISBN 978-4-339-06635-7 在庫あり 詳細を見る
半導体・MEMSのための超臨界流体 近藤 英一 山梨大教授 編著上野 和良 芝浦工大教授 著内田 寛 上智大准教授 著曽根 正人 東工大准教授 著生津 英夫 NTTアドバンステクノロジ (株) 著服部 毅 Hattori Consulting International 著堀 照夫 福井大教授 著森口 誠 オムロン (株) 著 気体と液体の性質を併せもつ超臨界流体について,その特長と,乾燥,めっき,薄膜堆積,洗浄など,半導体・MEMSのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説した,超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本。 電子版あり 発行年月日 2012/09/28 定価 3,740円(本体3,400円+税) ISBN 978-4-339-00837-1 在庫あり 詳細を見る