科学技術と共に歩む

ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用

• 表面技術協会 編
• 関口 敦 工学院大/元 キヤノンアネルバ（株） 著
• 杉村 博之 京大教授 著
• 小田 昭紀 千葉工大教授 著
• 中村 圭二 中部大教授 著
• 井上 泰志 千葉工大教授 著
• 大工原 茂樹 元 日本真空学会 著
• 渡部 修一 日本工大教授 著
• 梅村 茂 元 千葉工大教授 著
• 坂本 幸弘 千葉工大教授 著
• 川名 淳雄 日本コーティングセンター（株） 著
• 黒田 聖治 物質・材料研究機構 著
• 尾形 聡 月島機械（株） 著
• 矢嶋 龍彦 埼玉工大教授 著
• 節原 裕一 阪大教授 著
• 光田 好孝 東大教授 著
• 馬場 恒明 長崎県工業技術センター 著
• 國次 真輔 岡山県工業技術センター 著
• 三浦 健一 大阪府立産業技術総合研究所 著
• 田中 一平 千葉工大 著
• 石原 正統 産業技術総合研究所 著
• 亀山 哲也 産業技術総合研究所 著
• 稲垣 雅彦 産業技術総合研究所 著
• 堀 勝 名大教授 著
• 田中 宏昌 名大特任講師 著

「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。第Ⅰ編「ドライプロセスの基盤技術」および第Ⅱ編「ドライプロセスの応用」から構成され，研究現場や製造現場で的確にドライプロセスが実施できるよう工夫し解説した。