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半導体・MEMSのための超臨界流体

半導体・MEMSのための超臨界流体

気体と液体の性質を併せもつ超臨界流体について,その特長と,乾燥,めっき,薄膜堆積,洗浄など,半導体・MEMSのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説した,超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本。

発行年月日
2012/09/28
定価
3,740(本体3,400円+税)
ISBN
978-4-339-00837-1
在庫あり

レビュー,書籍紹介・書評掲載情報

日刊工業新聞2012年12月18日 「話題の本」欄

掲載日:2012/12/25

日刊工業新聞 「話題の本」欄に当書籍の新刊紹介が掲載されました。

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「Electoronic Journal」(電子ジャーナル発行) 2012年10月号

掲載日:2012/10/29

上記雑誌に書評が掲載されました。

 超臨界流体は、気体と液体の性質を併せ持ち、工業的にもすでに多く実用化されている媒体である。多品種少量・高度な生産技術が求められる現在、超臨界流体の活用が必要となってきており、微細化の進む半導体プロセスや様々な構造体が複合するMEMS分野での活用が期待されている。本書は、超臨界流体のマイクロエレクトロニクスへの応用について言及した点が特徴で、既存のプロセスの代替という観点に絞って詳述した。超臨界流体について概観した後、乾燥、洗浄、薄膜堆積などといった半導体・MEMSプロセスへの応用について、わかりやすく解説している。

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